Neki aspekti modeliranja reflektancijskog profila linijskog rasterskog elementa u okviru Monte Carlo metode
Krunoslav Hajdek
; University of Applied Sciences Varaždin, J. Križanića 33/6, Varaždin, Croatia
Petar Miljković
; Media University, Trg bana Jelačića 6, Koprivnica, Croatia
Damir Modrić
orcid.org/0000-0002-0110-2952
; Faculty of Graphic Arts, Getaldićeva 2, Zagreb, Croatia
APA 6th Edition Hajdek, K., Miljković, P. i Modrić, D. (2014). Neki aspekti modeliranja reflektancijskog profila linijskog rasterskog elementa u okviru Monte Carlo metode. Tehnički vjesnik, 21 (4), 779-788. Preuzeto s https://hrcak.srce.hr/126073
MLA 8th Edition Hajdek, Krunoslav, et al. "Neki aspekti modeliranja reflektancijskog profila linijskog rasterskog elementa u okviru Monte Carlo metode." Tehnički vjesnik, vol. 21, br. 4, 2014, str. 779-788. https://hrcak.srce.hr/126073. Citirano 04.03.2021.
Chicago 17th Edition Hajdek, Krunoslav, Petar Miljković i Damir Modrić. "Neki aspekti modeliranja reflektancijskog profila linijskog rasterskog elementa u okviru Monte Carlo metode." Tehnički vjesnik 21, br. 4 (2014): 779-788. https://hrcak.srce.hr/126073
Harvard Hajdek, K., Miljković, P., i Modrić, D. (2014). 'Neki aspekti modeliranja reflektancijskog profila linijskog rasterskog elementa u okviru Monte Carlo metode', Tehnički vjesnik, 21(4), str. 779-788. Preuzeto s: https://hrcak.srce.hr/126073 (Datum pristupa: 04.03.2021.)
Vancouver Hajdek K, Miljković P, Modrić D. Neki aspekti modeliranja reflektancijskog profila linijskog rasterskog elementa u okviru Monte Carlo metode. Tehnički vjesnik [Internet]. 2014 [pristupljeno 04.03.2021.];21(4):779-788. Dostupno na: https://hrcak.srce.hr/126073
IEEE K. Hajdek, P. Miljković i D. Modrić, "Neki aspekti modeliranja reflektancijskog profila linijskog rasterskog elementa u okviru Monte Carlo metode", Tehnički vjesnik, vol.21, br. 4, str. 779-788, 2014. [Online]. Dostupno na: https://hrcak.srce.hr/126073. [Citirano: 04.03.2021.]
APA 6th Edition Hajdek, K., Miljković, P. i Modrić, D. (2014). Some aspects of modelling of line screen element reflectance profile within the Monte Carlo method. Tehnički vjesnik, 21 (4), 779-788. Preuzeto s https://hrcak.srce.hr/126073
MLA 8th Edition Hajdek, Krunoslav, et al. "Some aspects of modelling of line screen element reflectance profile within the Monte Carlo method." Tehnički vjesnik, vol. 21, br. 4, 2014, str. 779-788. https://hrcak.srce.hr/126073. Citirano 04.03.2021.
Chicago 17th Edition Hajdek, Krunoslav, Petar Miljković i Damir Modrić. "Some aspects of modelling of line screen element reflectance profile within the Monte Carlo method." Tehnički vjesnik 21, br. 4 (2014): 779-788. https://hrcak.srce.hr/126073
Harvard Hajdek, K., Miljković, P., i Modrić, D. (2014). 'Some aspects of modelling of line screen element reflectance profile within the Monte Carlo method', Tehnički vjesnik, 21(4), str. 779-788. Preuzeto s: https://hrcak.srce.hr/126073 (Datum pristupa: 04.03.2021.)
Vancouver Hajdek K, Miljković P, Modrić D. Some aspects of modelling of line screen element reflectance profile within the Monte Carlo method. Tehnički vjesnik [Internet]. 2014 [pristupljeno 04.03.2021.];21(4):779-788. Dostupno na: https://hrcak.srce.hr/126073
IEEE K. Hajdek, P. Miljković i D. Modrić, "Some aspects of modelling of line screen element reflectance profile within the Monte Carlo method", Tehnički vjesnik, vol.21, br. 4, str. 779-788, 2014. [Online]. Dostupno na: https://hrcak.srce.hr/126073. [Citirano: 04.03.2021.]
Sažetak Bolje razumijevanje kako unutarnje strukturne promjene utječu na optička svojstva papira zahtijeva modeliranje kompozitne strukture njegovih slojeva. Predložena je simulacija u okviru Monte Carlo platforme, koja omogućuje različite geometrijske reprezentacije unutarnje strukture papira. Monte Carlo simulacija je metoda koja se može koristiti za simulaciju interakcije fotona s podlogom (u našem slučaju papirom). Model se može graditi tako da se povećanje složenosti može dodati kako se model razvija. Dakle, model se razvija od jednostavnog koncepta generacije slučajnih brojeva u vrlo točno tumačenje širenja fotona u papiru. Navedeni model primijenjen je na analizu učinka prirasta rastertonske vrijednosti otisnutih linija raznih debljina. Rezultati simulacije dobro se slažu s mjerenjima refleksije nakon što je dodatno uvedena funkcija "filtar" koja trajno uklanja fotone čime smo prilagodili simulirane vrijednosti mjerenim. U okviru simulacije, možemo procijeniti broj fotona koji završava ispod rasterskog elementa i uzrokuje mogući optički prirast rastertonske vrijednosti.