Izvorni znanstveni članak

Istraživanje silicijevih oksinitridnih filmova bogatih vodikom metodom EPR

Branko Pivac ; R. Bošković Institute, P.O. Box 1016, HR-41000 Zagreb, Croatia
Boris Rakvin ; R. Bošković Institute, P.O. Box 1016, HR-41000 Zagreb, Croatia
Alessandro Borghesi ; Dipartimento di Fisica, Universitá degli Studi, I-41100 Modena, Italy
Adele Sassella ; Dipartimento di Fisica Ä. Volta, Universitá degli Studi, I-27100 Pavia, Italy

Sažetak

Istraživali smo silicijeve oksinitridne filmove bogate vodikom, dobivene na monokristalnoj silicijevoj podlozi iz mješavine silana i dušik-(1)-oksida s pomoću uređaja za plazmom stimulirano kemijsko nanošenje iz pare. Proučavanje otpuštanja je pokazalo da izlaženje vodika ovisi o sastavu sloja, a posebice je usporeno pri sadržaju kisika x = 1.4. EPR mjerenja pokazuju da takav sloj sadrži najveću koncentraciju D centara. Zaključuje se da D centri djeluju kao zamke za vodik i uzrokuju neobična svojstva vodika u istraživanim filmovima.

Ključne riječi

Hrčak ID:

299472

URI

https://hrcak.srce.hr/299472

Datum izdavanja:

2.5.1995.

Podaci na drugim jezicima: engleski

Posjeta: 425 *