Izvorni znanstveni članak

Toplinska stabilnost W1−xSix/Si višeslojeva za rendgensku optiku

Eva Majkova ; Institute of Physics, Slovak Acad. Sci., 842 28 Bratislava, Slovak Republic
Matej Jergel ; Institute of Physics, Slovak Acad. Sci., 842 28 Bratislava, Slovak Republic
Rudolf Senderak ; Institute of Physics, Slovak Acad. Sci., 842 28 Bratislava, Slovak Republic
Stefan Luby ; Department of Electrotechnology, Slovak Techn. Univ., 812 19 Bratislava, Slovak Republic
Miroslav Babinsky ; Dept. of Microelectronics, FEI, Slovak Technical University in Bratislava, Bratislava, Slovak Republic

Sažetak

Primjenom parova materijala, koji se stavljaju u termodinamičku ravnotežu, može se povećati toplinska stabilnost višeslojeva za zrcala rendgenskog zračenja. Sloj volframa dopunjen je silicijem da bi se smanjila difuzija medu slojevima. Istraženi su višeslojevi W1−x Six sa x = 0.66, 0.5, 0.33 i x = 0.0 radi usporedivanja. W/Si višeslojevi sa deset dvoslojeva pripremljeni su nanošenjem uz pomoć elektronskog snopa na oksidirane Si podloge u ultravakuumu. Nominalna debljina slojeva Si bila je 5.5 nm, a W odnosno W1−xSix 2.5 nm. Višeslojevi su toplinski otpuštani. Uzorci su istraživani mjerenjem refleksivnosti i difrakcijom rendgenskog zračenja. Povećanjem x od 0 na 0.66, povisila se granična temperatura bez većeg oštećenja sa 500 na 800 ◦C.

Ključne riječi

Hrčak ID:

299474

URI

https://hrcak.srce.hr/299474

Datum izdavanja:

2.5.1995.

Podaci na drugim jezicima: engleski

Posjeta: 449 *