Original scientific paper
Istraživanje reaktivno nanešenih NbN slojeva
Ivan Hotovy
; Department of Microelectronics, Slovak Technical University, Ilkovicova 3, 812 19 Bratislava, Slovakia
Jozef Brcka
; Department of Microelectronics, Slovak Technical University, Ilkovicova 3, 812 19 Bratislava, Slovakia
Jozef Huran
; Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Dubravska 9, 842 39 Bratislava, Slovakia
Abstract
Istraživana su strukturna svojstva tankih slojeva niobium nitrida (NbN) reaktivnorasprašenih magnetronom, uz visoko-temperaturno otpuštanje (na 850 do 950 ◦C), s različitim sadržajima dušika u radnom plinu. Dobiveni NbN tanki slojevi istraženi su Augerovom elektronskom spektroskopijom (AES) i rendgenskom difrakcijom (XRD). Proučavan je utjecaj brzog toplinskog otpuštanja na strukturna svojstva i površinu slojeva.
Keywords
Hrčak ID:
299488
URI
Publication date:
2.5.1995.
Visits: 327 *