Izvorni znanstveni članak

Djelovanje kisikove plazme na polietersulfon

Lidija I. Belič ; Institute of Electronic and Vacuum Technique, Teslova 30, 61000 Ljubljana, Slovenia
Miran Mozetič ; Institute of Electronic and Vacuum Technique, Teslova 30, 61000 Ljubljana, Slovenia
Karol Požun ; Institute of Electronic and Vacuum Technique, Teslova 30, 61000 Ljubljana, Slovenia

Sažetak

Polietersulfon je pogodan materijal za osjetljive slojeve vrlo pouzdanih proba za vlažnost. Radi postizanja dobrih svojstava, površina polimera mora se aktivirati prije naparavanja metalne elektrode. Jedna od metoda je izlaganje polimera blagoj, induktivno proizvedenoj kisikovoj plazmi. Aktivirane čestice u plazmi uzrokuju oksidaciju površine polimera i njegovo stanjivanje. Primjenjivali smo stanjivanje brzinom 25 µm na sat.

Ključne riječi

Hrčak ID:

299607

URI

https://hrcak.srce.hr/299607

Datum izdavanja:

2.5.1996.

Podaci na drugim jezicima: engleski

Posjeta: 464 *