Izvorni znanstveni članak

Raspršenje sinhrotronskog zračenja na malim kutovima priklona i raspršenja u tankim slojevima praha tio2 pripremljenim polaganjem iz para i rasprašivanjem

Magdy Lučić-Lavčević ; Department of Physics, Faculty of Technology, University of Split, Teslina 10/V, 21000 Split, Croatia
Aleksandra Turković ; Institute Ruđer Bošković, P. O. Box 1016, 10000 Zagreb, Croatia
Damir Šokčević ; Institute Ruđer Bošković, P. O. Box 1016, 10000 Zagreb, Croatia
Pavao Dubček ; Institute Ruđer Bošković, P. O. Box 1016, 10000 Zagreb, Croatia; Sincrotrone Trieste S.c.p.A., ss. 14, km 163,5 Basovizza, 34012 Trieste, Italy
Ognjen Milat ; Institute of Physics, University of Zagreb, P. O. Box 304, 10000 Zagreb, Croatia
Božidar Etlinger ; Department of Physics, Faculty of Technology, University of Split, Teslina 10/V, 21000 Split, Croatia
Peter Laggner ; Institute for Biophysics and X-ray Structure Research, Austrian Academy of Sciences, Steyrerg 17, 8010 Graz, Austria
Heinz Amenitsch ; Sincrotrone Trieste S.c.p.A., ss. 14, km 163,5 Basovizza, 34012 Trieste, Italy; Institute for Biophysics and X-ray Structure Research, Austrian Academy of Sciences, Steyrerg 17, 8010 Graz, Austria

Sažetak

Sloj TiO2 nanometarske veličine zrna, debljine 1 µm, polagao se je na staklene podloge metodama kemijskog polaganja iz para i rasprašivanjem. Prosječna veličina zrna, MRN, određena mjerenjem raspršenja sinhrotronskog zračenja na malim kutovima priklona i raspršenja, mijenjala se je s temperaturom toplinskog otpuštanja (500 do 900 °C u H2, O2 i N2) za uzorke pripremljene iz para. Za uzorke TiO2 pripremljene rasprašivanjem, MRN se je povećao s temperaturom otpuštanja od 4.2 do 7.2 nm. Spečificna površina obje vrste tankih slojeva se je također određivala i mijenjala od 0.18 · 10^7 do 3.2·10^7 cm-1 .

Ključne riječi

Hrčak ID:

300882

URI

https://hrcak.srce.hr/300882

Datum izdavanja:

1.7.1998.

Podaci na drugim jezicima: engleski

Posjeta: 201 *