Izvorni znanstveni članak

Simulacija MBI refleksije tankih filmova Al neizotermno oksidiranih na T ≷ T2D

Stjepan Lugomer ; Ruđer Bošković Institute, Bijenička c. 54, Zagreb, Croatia, Yugoslavia
Sreten Lekić ; Electrotechnical Faculty, 78000 Banja Luka, Yugoslavia
Mladen Stipančić ; Electrotechnical Faculty, 78000 Banja Luka, Yugoslavia
Midhat Kerenović ; Electrotechnical Faculty, 78000 Banja Luka, Yugoslavia

Sažetak

Oksidacija tankih filmova Al u linearno rastućem termičkom polju koje prelazi temperaturu dvodimenzionalnog topljenja ( T2D), generira nehomogene filmove oksida s kompozicijskim gradijentom smjese Al2O3, nestehiometrijskih Al-oksida i neoksidiranog Al. Kompozicijski gradijent smjese generira gradijent indeksa loma n̂ = n (1 + ik), koji se mijenja s vremenom oksidacije. Taj gradijent izaziva jako eksponencijalno gušenje refleksijske interferencije. Razvijen je model za simulaciju gušene interferencije polazeći od modela za homogene dielektrične filmove, uvođenjem logaritamske oksidacijske kinetike z (t) = A In (t - τ), kao i uvođenjem izraza k = k0 (e y z(t) - 1), za gradijent imaginarnog dijela indeksa loma. Vrlo dobro fitovanje „in situ“ He-Ne laser MBI refteksionih krivulja, dobiveno je u svim razmatranim slučajevima.

Ključne riječi

Hrčak ID:

332035

URI

https://hrcak.srce.hr/332035

Datum izdavanja:

10.9.1991.

Podaci na drugim jezicima: engleski

Posjeta: 474 *