Original scientific paper

Termička stabilnost silicij–ugljik amorfnih legura nanesenih magnetronskim izvorima

Davor Gracin ; Ruđer Bošković Institute, POB 1016, Bijenička 54, 10000 Zagreb, Croatia
Nikola Radić ; Ruđer Bošković Institute, POB 1016, Bijenička 54, 10000 Zagreb, Croatia
Uroš V. Desnica ; Ruđer Bošković Institute, POB 1016, Bijenička 54, 10000 Zagreb, Croatia
Željko Andreić ; Ruđer Bošković Institute, POB 1016, Bijenička 54, 10000 Zagreb, Croatia
Davor Balzar ; Ruđer Bošković Institute, POB 1016, Bijenička 54, 10000 Zagreb, Croatia

Abstract

Slojevi amorfnog a−Si0.85C0.15:H i a−Si0.6C0.4:H su formirani magnetronskim izvorom, na nezagrijanoj podlozi. Nakon depozicije, uzorci su postepeno grijani u vakuumu do 1000 ◦C. Između uzastopnih grijanja vršena su mjerenja infra–crvenom spektroskopijom i difrakcijom X-zraka. Utjecaj ovakvog termalnog tretmana na strukturno uređenje uzoraka je praćeno razvojem intenziteta i oblika spektralnih linija koje odgovaraju Si−H i Si−C vezama. Na nižim temperaturama, najizrazitije promjene su vezane za desorpciju vodika, koja završava do 400 ◦C. Daljnjim grijanjem do 800 ◦C, linije postepeno mijenjaju oblik, intenzitet i frekvenciju maksimuma. Grijanje na i iznad 900 ◦C uzrokuje nagle promjene, označavajući prijelaz u kristalinično stanje.

Keywords

Hrčak ID:

299487

URI

https://hrcak.srce.hr/299487

Publication date:

2.5.1995.

Article data in other languages: english

Visits: 379 *