Original scientific paper
Intrinsični točkasti defekti u polikristaliničnom siliciju
Branko Pivac
; R. Bošković Institute, P. O. Box 180, HR-10002 Zagreb, Croatia
Vesna Borjanović
; Faculty of Electrical Engineering and Computing, Unska 3, HR-10000 Zagreb, Croatia
Ivana Kovačević
; R. Bošković Institute, P. O. Box 180, HR-10002 Zagreb, Croatia
Abstract
Svojstva intrinsičnih točkastih defekata još su uvijek neriješen problem. Svojim međudjelovanjem s drugim defektima i utjecajem na njihovu difuziju, oni mijenjaju elektronska svojstva materijala. Posebno su važni intrinsični točkasti defekti u polikristaliničnom siliciju zbog prisutnosti velikih koncentracija strukturnih defekata, kao što su dislokacije i granice kristalića raznih vrsta. Izravno je opažanje točkastih defekata vrlo teško, pa je stoga promatranje koncentracije ugljika vrlo dobar način određivanja svojstava točkastih defekata. Polikristalinični silicij prezasićen ugljikom predstavlja poseban slučaj u kojemu je snažno usporeno stvaranje vlastitih intersticijskih defekata i praznina sve do najviših temperatura, što stoga vodi na čuvanje ugljikovog prezasićenja u toplinskim obradama.
Keywords
Hrčak ID:
301056
URI
Publication date:
2.4.2000.
Visits: 468 *