Izvorni znanstveni članak

Interakcija kisika s površinom V (111)

Lidija Šiller ; Institute of Physics of the University Zagreb, Bijenička 46, Zagreb, Yugoslavia
Petar Pervan ; Institute of Physics of the University Zagreb, Bijenička 46, Zagreb, Yugoslavia
Milorad Milun ; Institute of Physics of the University Zagreb, Bijenička 46, Zagreb, Yugoslavia

Sažetak

Fotoelektronskim spektroskopijama XPS i UPS te Augerovom spektroskopijom studirana je interakcija kisika s V (111) površinom na temperaturama uzorka 90 i 300 K. Na 90 K nađeno je zasićenje površine nakon ekspozicije od 1.5. Na 300 K površina se zasiti nakon 10 L kisika. Dodatne količine kisika ne povećavaju intenzitet signala u UPS spektrima ali znatno mijenjaju izgled XPS spektara ukazujući da nastaju nova oksidna stanja vanadija. Također je nađeno da penetracija kisika u volumen uzorka počinje kod 200 K.

Ključne riječi

Hrčak ID:

332033

URI

https://hrcak.srce.hr/332033

Datum izdavanja:

10.9.1991.

Podaci na drugim jezicima: engleski

Posjeta: 360 *