Letter to the Editor
O elektronskom doprinosu elastičnim konstantama vrlo tankih slojeva p-tipa Si
Kamakhya Prasad Ghatak
; Department of Electronics and Telecommunication Engineering, University of Jadavpur, Calcutta-700 032, India
Badal De
; Department of Electrical Engineering, John Brown E and Cinc., 333 Udlow Street, P. O. Box 1422, Connecticut-0690, USA
Abstract
Razmatran je utjecaj teških, lakih i ultralakih šupljina na elastične konstante vrlo tankih slojeva p-tipa silicija. Sugerirana je eksperimentalna metoda za određivanje elastičnih konstanti u degeneriranim materijalima s proizvoljnim zakonom disperzije. Konstante elastičnosti rastu oscilatorno s porastom koncentracije šupljina, a opadaju porastom debljine filma.
Keywords
Hrčak ID:
332046
URI
Publication date:
2.12.1991.
Visits: 376 *