Original scientific paper

Istraživanje reaktivno nanešenih NbN slojeva

Ivan Hotovy ; Department of Microelectronics, Slovak Technical University, Ilkovicova 3, 812 19 Bratislava, Slovakia
Jozef Brcka ; Department of Microelectronics, Slovak Technical University, Ilkovicova 3, 812 19 Bratislava, Slovakia
Jozef Huran ; Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Dubravska 9, 842 39 Bratislava, Slovakia

Abstract

Istraživana su strukturna svojstva tankih slojeva niobium nitrida (NbN) reaktivnorasprašenih magnetronom, uz visoko-temperaturno otpuštanje (na 850 do 950 ◦C), s različitim sadržajima dušika u radnom plinu. Dobiveni NbN tanki slojevi istraženi su Augerovom elektronskom spektroskopijom (AES) i rendgenskom difrakcijom (XRD). Proučavan je utjecaj brzog toplinskog otpuštanja na strukturna svojstva i površinu slojeva.

Keywords

Hrčak ID:

299488

URI

https://hrcak.srce.hr/299488

Publication date:

2.5.1995.

Article data in other languages: english

Visits: 391 *