Original scientific paper
Utjecaj brzine nanošenja na strukturu i otpornost rasprašenih tankih slojeva Ti
Jindrich Musil
Albert J. Bell
; Institute of Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic, Na Slovance 2, 180 40 Prague 8, Czech Republic
Antonín Rajský
; Institute of Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic, Na Slovance 2, 180 40 Prague 8, Czech Republic
Milan Cepera
; Military Technical Institute, PO Box 547, 602 00 Brno, Czech Republic
Jaroslav Zeman
; Military Technical Institute, PO Box 547, 602 00 Brno, Czech Republic
Abstract
Istraživan je učinak radnog tlaka i brzine naparavanja na strukturu i električnu otpornost tankih Ti slojeva, nanešenih na neuzemljene staklene podloge magnetronskim i ionskim rasprašivanjem. Upotrebljen je neuravnotežen DC magnetron. Brzina nanošenja bila je između 0.03 i 0.45 µm/min. Struktura Ti slojeva, veličina zrna i mikrodeformacije određeni su rendgenskom difrakcijom. Povećanje brzine nanošenja iznad 0.7 µm/min vodi na izrazitu promjenu orijentacije kristalita od (002) ka (010) zbog premašenja praga gustoće snage.
Keywords
Hrčak ID:
299490
URI
Publication date:
2.5.1995.
Visits: 164 *