Skoči na glavni sadržaj

Izvorni znanstveni članak

Fotonima stimulirana desorpcija vodikovih iona iz poluvodičkih površina: dokazi izravnih i posrednih procesa

M. Petravić ; Department of Electronic Materials Engineering, Research School of Physical Sciences and Engineering, The Australian National University, Canberra ACT 0200, Australia
A. Hoffman ; Chemistry Department and The Solid State Institute, Technion, Haifa 32000, Israel
G. Comtet ; Laboratoire pour l'Utilisation du Rayonnement Electromagnétique (LURE), Bâtiment 209 D, Université de Paris-Sud, 91405 Orsay Cedex, France
L. Hellner ; Laboratoire de Photophysique Moléculaire, CNRS, Bâtiment 213, Université de Paris-Sud, 91405 Orsay Cedex, France
G. Dujardin ; Laboratoire de Photophysique Moléculaire, CNRS, Bâtiment 213, Université de Paris-Sud, 91405 Orsay Cedex, France


Puni tekst: engleski pdf 162 Kb

str. 275-284

preuzimanja: 69

citiraj


Sažetak

Proučavali smo fotonima stimuliranu desorpciju pozitivnih iona vodika iz hidrogeniziranih površina dijamanta i GaAs, za fotone energije oko energija vezanja unutarnjih elektrona atoma podloge. U slučaju površine dijamanta, usporedba prinosa H+ i fine strukture blizu-rubne apsorpcije X-zračenja (NEXAFS) za elektrone odabranih kinetičkih energija otkriva dva različita procesa koji uzrokuju fotodesorpciju: posredan proces uz sudjelovanje sekundarnih elektrona iz osnovnog materijala, i izravan proces uzrokovan uzbudom unutarnjih elektrona površinskih atoma ugljika vezanih na vodik. Usporedba fotodesorpcije H+ i emisije elektrona u ovisnosti o energiji fotona iz polarnih i nepolarnih površina GaAs daje jasne dokaze za izravne procese desorpcije uzrokovane ionizacijom odgovarajućih unutarnjih stanja veznih atoma.

Ključne riječi

Hrčak ID:

301020

URI

https://hrcak.srce.hr/301020

Datum izdavanja:

3.10.1999.

Podaci na drugim jezicima: engleski

Posjeta: 529 *