Skip to the main content

Original scientific paper

https://doi.org/10.15255/KUI.2014.012

Optimizacija parametara taloženja za premaze α-Al2O3 tehnikom plazme dvostrukog sjaja

Y.-B. Lin ; College of Material Science and Technology, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, 29 Yudao Street, 210 016 Nanjing, P.R. China; Jiangsu Provincial Key Laboratory for Interventional Medical Devices, Huaiyin Institute of Technology, 1 Meicheng
Y. Shen ; College of Material Science and Technology, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, 29 Yudao Street, 210 016 Nanjing, P.R. China
T.-F. Chen ; College of Material Science and Technology, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, 29 Yudao Street, 210 016 Nanjing, P.R. China
J. Tao ; College of Material Science and Technology, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, 29 Yudao Street, 210 016 Nanjing, P.R. China


Full text: english pdf 2.601 Kb

page 457-466

downloads: 670

cite


Abstract

Za dobivanje gustih i debelih premaza α-Al2O3 na nehrđajućem čeliku 316 L pri niskoj temperaturi od 580 °C parametri za pripravu premaza α-Al2O3 optimirani su tehnikom plazme dvostrukog sjaja. Udaljenost između izvora elektrode i supstrata, radni tlak, napon izvorne elektrode i napon elektrode radnog komada dobiveni su metodom ortogonalnog niza L9. Debljina, mikrostruktura, kemijski sastav i fazne komponente pršteći pohranjenih premaza Al/α-Al2O3 analizirani su pomoću 3-D beskontaktne površinske analize, skenirajućom elektronskom mikroskopijom opremljenom spektrometrijom disperzije energije rendgenskog zračenja i difrakcijom kuta sjaja rendgenskog zračenja. Rezultati su pokazali da usporedna udaljenost između izvora elektrode i supstrata ima dominantnu ulogu u određivanju debljine filmova. Premazi pripravljeni pri optimalnim uvjetima pokazali su vrlo gustu, ujednačenu i kompaktnu mikrostrukturu bez pukotina i oštećenja. Utvrđeno je da je na granici između premaza i supstrata formiran željezov aluminid. Debljina premaza je pri stopi taloženja od ~64,4 nm min–1 dosegla oko 11,6 μm. Ako je protok kisika 2 sccm, oksidirani premazi s najmanjom poroznošću od oko 0,13 % imaju relativni udjel α-Al2O3 od oko 66,5 %.

Keywords

Tehnika plazme dvostrukog sjaja; premazi α-Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>; niska temperatura; optimizacija

Hrčak ID:

145120

URI

https://hrcak.srce.hr/145120

Publication date:

17.9.2015.

Article data in other languages: english

Visits: 1.660 *