Original scientific paper
Površina silicija ozračena dušikovim laserskim zračenjem
Višnja Henč-Bartolić
; Dept. of Applied Physics, Faculty of Electrical Engineering and Computing, University of Zagreb, Unska 3, HR-10000 Zagreb, Croatia
Željko Andreić
; Laboratory for Ionized Gases, Division for Material Research and Electronics, Dept. of Physics, Rudjer Bošković Institute, Bijenička 54, HR-10000 Zagreb, Croatia
Davor Gracin
; Laboratory for Ionized Gases, Division for Material Research and Electronics, Dept. of Physics, Rudjer Bošković Institute, Bijenička 54, HR-10000 Zagreb, Croatia
Hans-Joachim Kunze
; Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Physik und Astronomie, Institut für Experimentalphysik V, D-44780 Bochum, Germany
Mirko Stubičar
; Dept. of Physics, Faculty of Science, University of Zagreb, Bijenička 32, HR-10000 Zagreb, Croatia
Abstract
Monokristalni silicij se ozračivao snopom iz dušik ovog lasera (λ = 337 nm, maksimalna snaga 1.1 J/cm2 , trajanje pulsa 6 ns i frekvencija 0.2 Hz). Plazma nastala na površini silicija se promatrala spektroskopski u zraku (ne = 3 = 1018 cm 3 , Te 18500 K) i u vakuumu (ne = 6 ¬ 5 = 1017 cm 3 , Te = 16000 K). Površina ozračena u vakuumu se proučavala pomoću metalografskog mikroskopa. Opazile su se kapljice oko ruba udubine na siliciju. Nastajanje kapljica se tumači hidrodinamičkim modelom.
Keywords
Hrčak ID:
299846
URI
Publication date:
1.6.1997.
Visits: 602 *