XPS analiza nano sloja nastalog na AISI 304L SS nakon elektropoliranja pod visokim naponom (HVEP)
Krzysztof Rokosz
; Division of Bioengineering and Surface Electrochemistry, Department of Engineering and Informatics Systems Faculty of Mechanical Engineering, Koszalin University of Technology, Racławicka 15-17, 75-620 Koszalin, Poland
Tadeusz Hryniewicz
; Division of Bioengineering and Surface Electrochemistry, Department of Engineering and Informatics Systems Faculty of Mechanical Engineering, Koszalin University of Technology, Racławicka 15-17, 75-620 Koszalin, Poland
Steinar Raaen
; Department of Physics Norwegian, University of Science and Technology (NTNU), Realfagbygget E3-124 Høgskoleringen 5, NO 7491 Trondheim, Norway
APA 6th Edition Rokosz, K., Hryniewicz, T. i Raaen, S. (2017). XPS analiza nano sloja nastalog na AISI 304L SS nakon elektropoliranja pod visokim naponom (HVEP). Tehnički vjesnik, 24 (Supplement 2), 321-326. https://doi.org/10.17559/TV-20151125085632
MLA 8th Edition Rokosz, Krzysztof, et al. "XPS analiza nano sloja nastalog na AISI 304L SS nakon elektropoliranja pod visokim naponom (HVEP)." Tehnički vjesnik, vol. 24, br. Supplement 2, 2017, str. 321-326. https://doi.org/10.17559/TV-20151125085632. Citirano 01.03.2021.
Chicago 17th Edition Rokosz, Krzysztof, Tadeusz Hryniewicz i Steinar Raaen. "XPS analiza nano sloja nastalog na AISI 304L SS nakon elektropoliranja pod visokim naponom (HVEP)." Tehnički vjesnik 24, br. Supplement 2 (2017): 321-326. https://doi.org/10.17559/TV-20151125085632
Harvard Rokosz, K., Hryniewicz, T., i Raaen, S. (2017). 'XPS analiza nano sloja nastalog na AISI 304L SS nakon elektropoliranja pod visokim naponom (HVEP)', Tehnički vjesnik, 24(Supplement 2), str. 321-326. https://doi.org/10.17559/TV-20151125085632
Vancouver Rokosz K, Hryniewicz T, Raaen S. XPS analiza nano sloja nastalog na AISI 304L SS nakon elektropoliranja pod visokim naponom (HVEP). Tehnički vjesnik [Internet]. 2017 [pristupljeno 01.03.2021.];24(Supplement 2):321-326. https://doi.org/10.17559/TV-20151125085632
IEEE K. Rokosz, T. Hryniewicz i S. Raaen, "XPS analiza nano sloja nastalog na AISI 304L SS nakon elektropoliranja pod visokim naponom (HVEP)", Tehnički vjesnik, vol.24, br. Supplement 2, str. 321-326, 2017. [Online]. https://doi.org/10.17559/TV-20151125085632
APA 6th Edition Rokosz, K., Hryniewicz, T. i Raaen, S. (2017). XPS analysis of nanolayer formed on AISI 304L SS after High-Voltage Electropolishing (HVEP). Tehnički vjesnik, 24 (Supplement 2), 321-326. https://doi.org/10.17559/TV-20151125085632
MLA 8th Edition Rokosz, Krzysztof, et al. "XPS analysis of nanolayer formed on AISI 304L SS after High-Voltage Electropolishing (HVEP)." Tehnički vjesnik, vol. 24, br. Supplement 2, 2017, str. 321-326. https://doi.org/10.17559/TV-20151125085632. Citirano 01.03.2021.
Chicago 17th Edition Rokosz, Krzysztof, Tadeusz Hryniewicz i Steinar Raaen. "XPS analysis of nanolayer formed on AISI 304L SS after High-Voltage Electropolishing (HVEP)." Tehnički vjesnik 24, br. Supplement 2 (2017): 321-326. https://doi.org/10.17559/TV-20151125085632
Harvard Rokosz, K., Hryniewicz, T., i Raaen, S. (2017). 'XPS analysis of nanolayer formed on AISI 304L SS after High-Voltage Electropolishing (HVEP)', Tehnički vjesnik, 24(Supplement 2), str. 321-326. https://doi.org/10.17559/TV-20151125085632
Vancouver Rokosz K, Hryniewicz T, Raaen S. XPS analysis of nanolayer formed on AISI 304L SS after High-Voltage Electropolishing (HVEP). Tehnički vjesnik [Internet]. 2017 [pristupljeno 01.03.2021.];24(Supplement 2):321-326. https://doi.org/10.17559/TV-20151125085632
IEEE K. Rokosz, T. Hryniewicz i S. Raaen, "XPS analysis of nanolayer formed on AISI 304L SS after High-Voltage Electropolishing (HVEP)", Tehnički vjesnik, vol.24, br. Supplement 2, str. 321-326, 2017. [Online]. https://doi.org/10.17559/TV-20151125085632
Sažetak U radu se predlaže novi postupak nazvan elektropoliranje pod visokim naponom - High-Voltage Electropolishing (HVEP) kako bi se dobila specifična svojstva površine obrađivanog metalnog materijala. Za HVEP obradu kao biomaterijal korišten je AISI 304L nehrđajući čelik. Druga karakteristika ovoga rada je primjena koncentrirane otopine fosforne kiseline kao elektrolita u bakrovom nitratu. Osnovna svrha HVEP-a u toj vrsti elektrolita bila je uključivanje bakarnih iona u pasivni površinski sloj. Takav se modificirani nanosloj analizirao primjenom X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) kako bi se otkrio sastav dobivenog sloja. Učinjena je usporedba numeričkih rezultata, ovisno o primijenjenom naponu. Uz to, određeni su omjeri Cr/Fe i Cu/P kako bi se pokazale prednosti tog elektrokemijskog HVEP postupka.